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2017年

2017.02.07

特許

商標

シンガポール

法令

シンガポールにおける特許と商標の庁費用の引き下げ

2017.02.07

意匠

カナダ

法令

カナダで色彩を含む意匠の登録と実務合理化が決定

2017.02.03

特許

韓国

法令

韓国特許出願における審査請求期間の短縮

2017.01.13

特許

アメリカ(米国)

制度

米国のP3パイロットプログラムが受付中止

2016年

2016.11.17

特許

中国

法令

制度

中国審査指南の改定案について

2016.11.10

特許

商標

インドネシア

制度

インドネシアの庁費用の値上げ(特許・商標の出願手数料、商標の更新費用)

2016.09.30

特許

アルゼンチン

法令

アルゼンチンの加速審査について

2016.08.23

特許

シリア

制度

シリアでの特許審査手数料の値上げ

2016.08.18

特許

シンガポール

制度

シンガポールにおける補充審査制度の廃止が3年間延期に

2016.07.21

特許

意匠

商標

コソボ

制度

コソボでの特許等の出願手続の要件厳格化

2016.07.21

商標

タイ

制度

タイ:商標法改正、及び、印紙代変更

2016.07.15

特許

オーストラリア

ニュージーランド

制度

オーストラリアおよびニュージーランドにおける単一出願手続の法案見直し

2016.07.14

特許

アメリカ(米国)

法令

米国での審査における新たなパイロットプログラムの開始

2016.06.27

特許

意匠

商標

イギリス(英国)

イギリスの欧州連合(EU)離脱について

2016.06.20

商標

ルワンダ

制度

ルワンダ:知的財産権に関するプラクティス改正

2016.06.16

商標

タイ

制度

タイ:商標法改正

2016.06.15

特許

台湾

その他

台湾における新「専利侵害判断要点」について

2016.06.06

商標

メキシコ

制度

メキシコ:異議申立制度の導入

2016.06.02

特許

クウェート

法令

クウェートでの特許権取得にはGCC特許庁への出願が必要に

2016.05.27

特許

インド

法令

インド特許法の改正施行規則が発効